氮氧化硅薄膜的特性

目前对氮氧化硅薄膜的研究已经比较多，尤其是利用CVD技术制备氮氧化硅的工艺已相当成熟，但用常压化学气相沉积法（PAcvD）制备的温度一般不低于805℃，并且对氮氧化硅性能的研究主要集中在光电方面。用Zzx4型旋片真空泵抽真空后充人高纯姚。保护加热至反应温度，然后按比例通人反应气体到混气室中，等气体混合到一定压力时从混气室中以一定流量放出反应气体至反应器中进行反应。

反应结束后在姚中冷却至2℃取样。随着N场S/i践流量比例的增大，膜的硬度逐渐降低，这是由于NH3/is氏流量比例的增大，混合气体中iS残的流量变小，从而薄膜厚度减小，阻碍压头压人的效果减弱。

从所得结果表明，iSON薄膜能有效提高平板玻璃的表面硬度，改善平板玻璃的抗磨损性能。近年来，浙江大学用妙CVD法在低温（<7℃）下成功制备了氮氧化硅膜图。本文在此基础上，着重研究氮氧化硅薄膜的力学性能，为氮氧化硅薄膜在材料表面改性领域的应用提供依据。当薄膜厚度合适时，氮氧化硅薄膜对紫外光、可见光和红外光的透过率可以达到很高的值（09%以上）。

因此，通过控制制备工艺沉积出合适厚度的氮氧化硅薄膜并且减少样品污染，就可以在保持平板玻璃原有光学性能的同时，利用这种薄膜的高硬度改善平板玻璃的表面质量，扩大应用范围。

（l）平板玻璃表面形成氮氧化硅薄膜后，其硬度从原来的6.SGPa提高到9.7GaP，硬度提高了04%.

（2）氮氧化硅薄膜在空气中抗氧化性能好，在980℃下处理1.5小时后仅发生轻微氧化反应。

（3）镀膜后平板玻璃的可见光透过率略有所降低。